发动机需要启动时转动点火开关钥匙，继电器闭合，熄火控制器内触电A与触电B连接状态导通线路电机运作带动涡轮运转的同时，熄火控制器C触电处于停止运行完成启动后此时A点与C点连接
发动机需要启动时转动点火开关钥匙，继电器闭合，熄火控制器内触电A与触电B连接状态导通线路电机运作带动涡轮运转的同时，熄火控制器C触电处于停止运行完成启动后此时A点与C点连接
发动机需要启动时转动点火开关钥匙，继电器闭合，熄火控制器内触电A与触电B连接状态导通线路电机运作带动涡轮运转的同时，熄火控制器C触电处于停止运行完成启动后此时A点与C点连接
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EBL(electron-blocking layer)即电子阻挡层，能够控制LED中电子的流向(阻碍反向漏电流)，提高发光效率。如概述图所示介于MQW(多阱结构)和CBL(电流阻挡层)之间。
电子束曝光系统, EBL，又称电子束暴光系统)是一种利用电子束在工件面上扫描直接产生图形的装置。由于SEM、STEM及FIB的工作方式与电子束曝光机十分相近，美国JC Nabity Systems公司是早研发了基于改造商品S或FIB的电子束曝光装置纳米图形发生系统，又称电子束微影系统)。电子束曝光技术具有可直接刻画精细图案的优点，且高能电子的波长短(< 1 nm)，可避免绕射效应的困扰，是实验室制作微小纳米电子元件佳的选择。相对于购买昂贵的电子束曝光机台，以既有的SEM等为基础，外加电子束控制系统，透过电脑界面控制电子显微镜中电子束之矢量扫描，以进行直接刻画图案，在造价方面可大幅节省，且兼具原SEM 的观测功能，在功能与价格方面均具有优势。由于其具有高分辨率以及低成本等特点，在北美研究机构中，JC Nabity的NPGS是的配套于扫描电镜的电子束微影曝光系统，而且它的应用在世界各地越来越广泛。(NPGS突出优点是技术性且高)折叠
为满足纳米级电子束曝光系统的要求，系统设计了一个纳米图形发生器和数模转换电路，并采用机控制。机通过图形发生器和数模转换电路去驱动等仪器的扫描线圈，从而使电子束偏转并控制束闸的通断。通过可以对标准样片进行图像采集以及扫描场的校正。配合精密定位的工件台，还可以实现曝光场的拼接和套刻。利用配套软件也可以新建或导入多种通用格式的曝光图形。
曝照所需电子束是由既有的产生的电子束(离子束)提供。
电子射出后，受数千乃至数万伏特之加速电压驱动沿显微镜中轴向下移动，并受中轴周围磁透镜作用形成聚焦电子束而对样本表面进行扫描与图案刻画。扫描方式可分为循序扫描与矢量扫描。
扫描过程中，电子束的开启与阻断是由电子束阻断器所控制。电子束阻断器通常安装在磁透镜组上方，其功效为产生一大偏转磁场使电子束完全偏离中轴而无法到达样本。
(三) 阻剂(光阻)
阻剂是转移电子束曝照图案的媒介。阻剂通常是以薄膜形式均匀覆盖于基材表面。高能电子束的照射会改变阻剂材料的特性，再经过显影后，曝照(负阻剂)或未曝照(正阻剂)的区域将会留在基材表面，显出所设计的微影图案，而后续的制程将可进一步将此图案转移到阻剂以下的基材中。
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